紫外臭氧清洗机是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系统具有进出气接口。该系统由一个方便的预设置控制器控制，非常容易操作。
　　紫外臭氧清洗机采用不需要任何溶剂的干式清洗技术，对清洗表面没有损伤。采用大功率低压石英汞灯，产生波长185nm和254nm的紫外线，185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的臭氧分子O3，254nm的光同时激发清洗表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短，且同时也被254nm的光分解，因此可调节样品台到灯管的距离来优化性能。
　　紫外臭氧清洗机具体应用：
　　1．薄膜沉积前的基体清洗
　　2．清洗硅片，透镜，镜面，太阳能面板
　　3．清洗助焊剂型混合电路和平板LCD
　　4．蚀刻TEFLON,或其他的有机材料
　　5．改善塑料表面涂料的粘接性能
　　6．玻璃表面的亲水处理和改性
　　7．金属表面的亲水处理和改性
　　8．去除硅片UV胶带，UV油墨，光刻胶
　　9．氧化退火和改性或产生氧化层
　　紫外臭氧清洗机可用于去除石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物，提供了一种高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一种非常重要的技术。可常用于扫描探测显微镜的样品，用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。